一、用途：

小型化气压烧结炉用于研究烧结氮化硅陶瓷基板等。

二、主要特点：

1.装料方式：立式上装料.

2.炉壳内、外层均为压力容器不锈钢材料制作。

3.Max.温度：2000℃.

4.气压范围:2MPa.

5.工作区：Ø100X100mm

6.PLC加触摸屏控制模式，自动化操作.

7.空间小，占地少，是理想的氮化硅基板实验烧结炉.